合成 : XEQ W
分析 : XEQ Z
MEM E : 比誘電率
MEM H : 誘電体(基板)の厚み [mm]
MEM T : 導体の厚み [mm]
MEM W : マイクロストリップライン幅 [mm]
REG x : 特性インピーダンス [Ω] (合成時)
| マイクロストリップライン幅 [Ω] (分析時)
MEM R : 波長短縮率
MEM W : マイクロストリップライン幅 [mm]
MEM Z : 特性インピーダンス [Ω]
REG t : 開放端補正 [mm]
REG z : 直角ベンド補正
REG y : 波長短縮率
REG x : マイクロストリップライン幅 [mm] (合成時)
| 特性インピーダンス [mm] (分析時)
μZW ‐ Rev. 1.76 : Jan. 24, 2012
LBL W STO Z 8 RCL× H 1 RCL+ E SQRT RCL× Z 72 ÷ eχ ÷ STO W FN= X SOLVE W STO W XEQ Y RCL W RTN
LBL X 4 RCL× H RCL H 11 10 ÷ RCL× T RCL+ W π × ÷ χ² 1 + SQRT RCL× T ÷ LN 1 + RCL× T π ÷ RCL E 1/χ 1 + 2 ÷ × LASTχ π χ² 4 R↑ RCL+ W
÷ RCL× H ENTER R↓ R↓ × 8 RCL÷ E 14 + 11 ÷ R↑ × ENTER R↓ χ² + SQRT R↑ + × 1 + LN 42.397056 1 RCL+ E SQRT ÷ × RCL- Z RTN
LBL Y 1 χ<> E STO R XEQ X RCL+ Z RCL÷ Z 1/χ χ<> R STO E
103 250 ÷ RCL× H 3 10 ÷ RCL+ E × 0.262 RCL W RCL÷ H + LASTχ 0.813 + -0.258 RCL+ E × 1/χ × ×
-27 RCL× W 20 RCL× H ÷ eχ 65 × 52 + 100 ÷ χ≤0? CLχ RCL R RTN
LBL Z STO W CLχ STO Z XEQ X STO Z XEQ Y RCL Z RTN
W (CK=2624 028.5)
: Synthesize
X (CK=5C87 113.0)
: Effective width
Y (CK=96BA 104.0)
: Velocity of propagation, Open-end compensation, and
Rightangle bend compensation (valid for 0.25 ≤ W/H ≤ 2.75, 2.5 ≤ εr ≤ 25, VSWR ≤ 1.1 [2](i.e. S11 ≤ -26dB))
Z (CK=1EFC 013.5)
: Analyze (Characteristic impedance error ≤ 2% [1])
Micro strip line impedance
where,
Right bend compensation
Input
3.5 STO E 0.400 STO H 0.018 STO T 50 XEQ WOutput
MEM R : 608.477373E-3 MEM W : 877.596205E-3 MEM Z : 50.00000000E0 REG t : 157.769272E-3 REG z : 553.618791E-3 REG y : 608.477373E-3 REG X : 877.596205E-3
Online calculator - Synthesize/Analyze microstrip transmission line
for the HP 42S - Synthesize/Analyze microstrip transmission line
for the HP 15C - Synthesize/Analyze microstrip transmission line
Ostrowski's method